1.問題：印制電路中蝕刻速率降低

原因：

由于工藝參數(shù)控制不當引起的

解決方法：

按工藝要求進行檢查及調(diào)整溫度、噴淋壓力、溶液比重、PH值和氯化銨的含量等工藝參數(shù)到工藝規(guī)定值。

2.問題：印制電路中蝕刻液出現(xiàn)沉淀

 

  原因：

（1）氨的含量過低

（2）水稀釋過量

（3）溶液比重過大

解決方法：

（1）調(diào)整PH值到達工藝規(guī)定值或適當降低抽風(fēng)量。

（2）調(diào)整時嚴格按工藝要求的規(guī)定或適當降低抽風(fēng)量執(zhí)行。

（3）按工藝要求排放出部分比重高的溶液經(jīng)分析后補加氯化銨和氨的水溶液，使蝕刻液的比重調(diào)整到工藝充許的范圍。

 

3.問題：印制電路中金屬抗蝕鍍層被浸蝕

 

 原因：

 （1）蝕刻液的PH值過低

（2）氯離子含量過高

 

解決方法：

（1）按工藝規(guī)定調(diào)整到合適的PH值。

（2）調(diào)整氯離子濃度到工藝規(guī)定值。

 

4.問題：印制電路中銅表面發(fā)黑，蝕刻不動

 

 原因：

蝕刻液中的氯化鈉含量過低

 

解決方法：

按工藝要求調(diào)整氯化鈉到工藝規(guī)定值。

 

 

5.問題：印制電路中基板表面有殘銅

 

  原因：

 （1）蝕刻時間不夠

 （2）去膜不干凈或有抗蝕金屬

 解決方法：

（1）按工藝要求進行首件試驗，確定蝕刻時間（即調(diào)整傳送速度）。

（2）蝕刻前應(yīng)按工藝要求進行檢查板面，要求無殘膜、無抗蝕金屬滲鍍。

 

6.問題：印制電路中基板兩面蝕刻效果差異明顯

 

 原因：

（1）設(shè)備蝕刻段噴咀被堵塞

（2）設(shè)備內(nèi)的輸送滾輪需在各桿前后交錯排列，否則會造成板面出現(xiàn)痕道

（3）噴管漏水造成噴淋壓力下降（經(jīng)常出在噴管與歧管的各接頭處）

（4）備液槽中溶液不足，造成馬達空轉(zhuǎn)

 

解決方法:

(1）檢查噴咀堵塞情況，有針對性進行清理。

(2)重新徹底檢查和安排設(shè)備各段的滾輪交錯位置。

(3)檢查管路各個接頭處并進行修理及維護。

(4)經(jīng)常觀察并及時進行補加到工藝規(guī)定的位置。

7.問題：印制電路中板面蝕刻不均使部分還有留有殘銅

 

原因：

(1)基板表面退膜不夠完全，有殘膜存在

(2)全板鍍銅時致使板面鍍銅層厚度不均勻

(3)板面用油墨修正或修補時沾到蝕刻機的傳動的滾輪上

 

解決方法：

(1)基板表面退膜不夠完全，有殘膜存在。

(2)全板鍍銅時致使板面鍍銅層厚度不均勻。

(3)板面用油墨修正或修補時沾到蝕刻機的傳動的滾輪上。

(4)檢查退膜工藝條件，加以調(diào)整及改進。

(5)要根據(jù)電路圖形的密度情況及導(dǎo)線精度，確保銅層厚度的一致性，可采用刷磨削平工藝方法。

(6)經(jīng)修補的油墨必須進行固化處理，并檢查和清洗已受到沾污的滾輪。

 

8.問題：印制電路板中蝕刻后發(fā)現(xiàn)導(dǎo)線嚴重的側(cè)蝕

原因：

(1)噴咀角度不對，噴管失調(diào)

(2)噴淋壓力過大，導(dǎo)致反彈而使側(cè)蝕嚴重

解決方法：

(1)根據(jù)說明書調(diào)整噴咀角度及噴管達到技術(shù)要求。

(2)按照工藝要求通常噴淋壓力設(shè)定20-30PSIG,并通過工藝試驗法進行調(diào)整

9.問題：印制電路中輸送帶上前進的基板呈現(xiàn)斜走現(xiàn)象

原因：

(1)設(shè)備安裝其水平度較差

(2)蝕刻機內(nèi)的噴管會自動左右往復(fù)擺動，有可能部分噴管擺動不正確，造成        板面噴淋壓力不均引起基板走斜

(3)蝕刻機輸送帶齒輪損壞造成部分傳動輪桿的停止工作

(4)蝕刻機內(nèi)的傳動桿彎曲或扭曲

(5)擠水止水滾輪損壞 

(6)蝕刻機部分擋板位置太低使輸送的板子受阻 

(7)蝕刻機上下噴淋壓力不均勻，下壓過大時會頂高板子 

解決方法： 

(1)按設(shè)備說明書進行調(diào)整，調(diào)整各段滾輪的水平角度與排列，應(yīng)符合技術(shù)要 求。 

(2)詳細檢查各段噴管擺動是否正確，并按設(shè)備說明書進行調(diào)整。 

(3)應(yīng)按照工藝要求逐段地進行檢查，將損壞或損傷的齒輪和滾輪更換。

(4)經(jīng)詳細檢查后將損壞的傳動桿進行更換.

(5)應(yīng)將損壞的附件進行更換。

(6)經(jīng)檢查后應(yīng)按照設(shè)備說明書調(diào)整擋板的角度及高度。

(7)適當?shù)恼{(diào)整噴淋壓力。

 

10. 問題：印制電路中板面線路蝕銅未徹底，部分邊緣留有殘銅

原因：

(1)干膜未除盡（有可能由于兩次鍍銅與錫鉛鍍層過厚增寬遮蓋少量干膜而導(dǎo)  致退膜困難）

(2)蝕刻機中輸送帶速度過快

(3)鍍錫鉛時鍍液滲入干膜底部造成極薄鍍層沾污的干膜，使該處蝕銅的速度減慢形成導(dǎo)線邊緣留有殘銅.

 

解決方法：

   (1)檢查退膜情形，嚴格控制鍍層厚度，避免鍍層延伸。

   (2)根據(jù)蝕刻質(zhì)量調(diào)整蝕刻機輸送帶的速度。

   (3)A檢查貼膜程序，選擇適當?shù)馁N膜溫度和壓力，提高干膜與銅表面的附著力

      B檢查貼膜前銅表面微粗化狀態(tài)。

11. 問題：印制電路中板兩面蝕刻效果不同步

 

原因：

 (1)兩面銅層厚度不一致

 (2)上下噴淋壓力不均 

 

解決方法：

  (1)A根據(jù)兩面鍍層厚度凋整上下噴淋壓力（銅層厚度朝下）； 

B采用單面蝕刻只開動下噴咀壓力。 

(2)A根據(jù)蝕刻板子的質(zhì)量情況，檢查上下噴淋壓力并進行調(diào)整； 

B檢查蝕刻機內(nèi)蝕刻段的噴咀是否被堵塞，并采用試驗板進行上下噴淋壓力的調(diào)整。

12. 問題：印制電路中堿性蝕刻液過度結(jié)晶 

 

原因： 

當堿性蝕刻液的PH值低于80時，則溶解度變差致使形成銅鹽沉淀與結(jié)晶 

 

解決方法： 

（1）檢查補充用的備用槽中的子液量是否足夠。 

（2）檢查子液補充的控制器、管路、泵、電磁閥等是否堵塞異常。 （3）檢 查是否過度抽風(fēng)，而造成氨氣的大量逸出致使PH降低。 （4）檢測PH計的功能是否正常。  

13. 問題：印制電路中連續(xù)蝕刻時蝕刻速度下降，但若停機一段時間則又能恢復(fù)蝕刻速度

 

原因： 

抽風(fēng)量過低，導(dǎo)致氧氣補充不足

解決方法： 

（1）通過工藝試驗法找出正確抽風(fēng)量。 

（2）應(yīng)按照供應(yīng)商提供的說明書進行調(diào)試，找出正確的數(shù)據(jù)。  

14. 問題：光致抗蝕劑脫落（干膜或油墨）

 

原因： 

（1）蝕刻液PH值太高，堿性水溶干膜與油墨就很容易遭到破壞 

（2）子液補給系統(tǒng)失控 

（3）光致抗蝕劑本身的類型不正確，耐堿性能差 

解決方法： 

（1）按照工藝規(guī)范確定的值進行調(diào)整。 

（2）檢測子液的PH值，保持適宜的通風(fēng)，勿使氨氣直接進入板子輸送行進的區(qū)域。 

（3）A良好的干膜可耐PH=9以上。

        B采用工藝試驗法檢驗干膜耐堿性能或更換新的光致抗蝕劑品牌。  

15. 問題：印制電路中蝕刻過度導(dǎo)線變細 

原因： 

（1）輸送帶傳動速度太慢 

（2）PH過高時會加重側(cè)蝕 

（3）蝕刻液的比重值低于規(guī)范設(shè)定值 

解決方法： 

（1）檢查銅層厚度與傳動速度之間的關(guān)系，并設(shè)定操作參數(shù)。 

（2）檢測蝕刻液的PH,如高出工藝規(guī)定的范圍，可采用加強抽風(fēng)直到恢復(fù)正常 （3）檢測比重值，若低于設(shè)定值時，則應(yīng)添加銅鹽并停止子液的補充，使其比重值回升到工藝規(guī)定的范圍內(nèi)。  

16. 問題：印制電路中蝕刻不足，殘足太大 

 

原因： 

（1）輸送帶傳動速度太快 

（2）蝕刻液PH太低（其數(shù)值對蝕刻速度影響不大，但當PH降低時側(cè)蝕將會減少，但殘足變大） 

（3）蝕刻液比重超出正常數(shù)值（比重對蝕刻速度影響不大，但比重增大時，側(cè)蝕將會減少） 

（4）蝕刻液溫度不足 

（5）噴淋壓力不足

解決方法： 

（1）檢查銅層厚度與蝕刻機傳送速度之間的關(guān)系，通過工藝試驗法找出最佳操作條件。

（2）檢測蝕刻液的PH值，當該值低于80時即需采取提高的方法，如添加氨水或加速子液的補充與降低抽風(fēng)等。 

（3）A檢測蝕刻液的比重值，并加較多子液以降低比重值至工藝規(guī)定范圍。 

B檢查子液補給系統(tǒng)是否失靈。

（4）檢查加熱器的功能是否有異常。 

（5）A檢查噴淋壓力，應(yīng)調(diào)整到最隹狀態(tài)。 

B檢查泵或管路是否有異常。

C備液槽中水位太低，造成泵空轉(zhuǎn)，檢查液位控制、補充、與排放泵的操作程序。

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